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        PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），，，，，，通过MOSI层爆发180°的相位差以降低光的衍射作用，，，，，，从而提高掩模图形区分率

        相移掩模手艺优点：镌汰邻近效应，，，，，，使用光的相关性，，，，，，抵消部分衍射扩展效应，，，，，，改变空间光强漫衍，，，，，，使更多的能量从低频分派到高频上，，，，，，填补投影物镜通低频阻高频的弱点，，，，，，提高空间图像的反差，，，，，，改变像质，，，，，，使区分率和焦深增大