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制造与服务

今年会 | 官方网站 1μm600V HVIC

 

今年会 | 官方网站 Overview
        公司提供的1μm 600V HVIC高压浮栅工艺 ,,,,, 拥有200V/600V两个档位的NLDMOS/高压隔离岛。 。。。。公司的高压互联自屏障手艺荣获两项发明专利。 。。。。为电机驱动、白色家电(IPM ??? ??椋⒋蠊β蔐LC、无人机等应用提供了很好的解决计划。 。。。。

 

今年会 | 官方网站 Key Features
- Cost effective mask layer ,,,,,competitive Rdson and BVdss performance
- Foundry compatible 5V CMOS ,,,,,20V MV-LDMOS, 200V/600V HVMOS+island
- Rich options included parasitic Zener/JFET
- PDK and industry standard CAD tools are supported
- Supporting Thick metal layer

 

今年会 | 官方网站 Application
-Motor driver
-IPM
-LLC
-Unmanned aerial vehicle
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今年会 | 官方网站 1.0μm 60V/120V HVIC

 

今年会 | 官方网站 Overview
        公司提供的1.0μm 60V/120V HVIC工艺 ,,,,, 拥有高可靠性的LDMOS以及精简的光刻条理 ,,,,,提供60V/120V两个档位的N/PLDMOS以及隔离岛。 。。。。为手持电动工具、平衡车、无人机等应用提供了很好的解决计划。 。。。。

 

今年会 | 官方网站 Key Features
- Cost effective mask layer ,,,,,competitive Rdson and BVdss performance
- Foundry compatible 5V CMOS ,,,,,12V MV-LDMOS, 60V/120V HV-LDMOS and island.
- Rich options included parasitic Zener/JFET
- PDK and industry standard CAD tools are supported
- Supporting Thick metal layer

 

今年会 | 官方网站 Application
- Power tools
- Ninebot
-Unmanned aerial vehicle
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今年会 | 官方网站 1.0μm 25V 40V HV

 

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        1.0μm 25V 40V HV是公司的标准高压工艺平台之一。 。。。。是以较少光刻层数实现的经济高压工艺 ,,,,,工艺特征为1.0μm 线宽 ,,,,,单层多晶 ,,,,,双层金属 ,,,,,应用于数;;;;;; ;;煜母哐共 ,,,,,工艺平台提供通例及隔离的5V低压CMOS、25V或40V高压CMOS器件 ,,,,,以及多晶高阻和齐纳二极管等器件。 。。。。
为了节约芯片面积 ,,,,,工艺提供1.0μm 前端0.5μm后端设计规则。 。。。。

 

今年会 | 官方网站 Key Features 
- 5V logic layout & performance compatible with the industry standard
- 1.0 micron front-end, 1.0 micron or 0.5 micron back-end design rule
- Epi process for isolated devices
- Modular concept (HR/ Zener / BJT / Special require)
- Vgs/Vds=5V/25 or Vgs/Vds=5V/40V ,,,,,Vgs/Vds=25V/25 or Vgs/Vds=40V/40V HVCMOS
- High value poly resistor
- I/O cell library with 2KV HBM ESD protection levels

 

今年会 | 官方网站 Application 
- LCD driver/LED driver
- Power management product
- Battery protection IC

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